电子马达Parylene-Parylene-菱威纳米

        工件表面超硬化处理方法主要有物理气相沉积（PVD），化学气相沉积（CVD），物理化学气相沉积（PCVD），扩散法金属碳化物履层技术，航拍无人机Parylene，其中，CVD法具有膜基结合力好，工艺绕镀性好等**优点，因此其应用主要集中在硬质合金等材料上。PCVD法的沉积温度低，膜基结合力及工艺绕镀性均较PVD法有较大改进，但与扩散法相比，膜基结合力有较大的差距，PVD法具有沉积温度低，工件变形小的优点，但由于膜层与基体的结合力较差，工艺绕镀性不好，往往难以发挥超硬化合物膜层的性能优势。此外由于PCVD法是等离子体成膜，虽然绕镀性较PVD法有所改善，不过没有办法消除。

       由扩散法金属碳化物覆层技术形成的金属碳化物覆层，与基体形成冶金结合，具有PVD、PCVD无法比拟的膜基结合力，因此该技术真正能够发挥超硬膜层的性能优势，此外，该技术没有绕镀性问题，后续基体硬化处理方便，并可多次重复处理，使该技术的适用性更加广泛。

       磁性材料：随着信息产业的不断发展，磁性元件越来越趋向于小型化，3-5㎜的软磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不断被应用，电子马达Parylene，对磁材的防护提出了新的要求。Parylene*特的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型**小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型**小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。

1、可以抗酸碱腐蚀☆可以抗溶解（在普通的溶剂中不会被溶解）

2、抗冻性能强（低至-200℃）

3、具有的屏障效果（低气体渗透性）

4、可靠性强，具有较高的绝缘强度

5、采用Parylene进行涂层，可得到均匀一致，透明且较薄的膜层

6、能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边、裂缝

7、经济清洁、工序简单、速度快、批量处理能力强 .......

        放电室腔体真空密闭，气体放电间隙在0～5 mm可调，实验选用厚为3. 5 mm的普通玻璃作为介质，高压电极与玻璃介质接触，地电极与玻璃介质间隙为3 mm。抽气系统由机械泵( ZXZ - 4型，上海真空泵厂)和电磁真空带充气阀(DDC - JQ - A，上海阀门二厂)组成。

      放电压力通过电容压力计(626A型，美国MKS公司)测量，并经质量流量显示仪(D08 - 4D /ZM型，北京七星华创)调节。采用介质阻挡等离子体增强化学气相沉积(DBD -PECVD)法是以硅片(p - Si ( 100) ) 、玻璃介质和滤纸为基底沉积a - C: F薄膜， C4 F8 ( 99. 99 % )为放电气体，Ar为工作气体， C4 F8和Ar通过质量流量计控制混合后送入放电室。基底首先用无水乙醇(99. 99 % )清洗，植保无人机Parylene，以除去表面的氧化层和污染物，然后快速放入放电室中，尽量减少尘埃对基底的污染。沉积薄膜前，需在Ar环境中放电15 min，对基底表面进一步清洗。沉积a - C: F薄膜时，放电压力控制在25～1 000 Pa，Parylene，放电峰值电压(Vpp )为24 kV，放电频率为1 kHz，放电间隙为3 mm。